| http://dbpedia.org/ontology/abstract
|
X-ray reflectivity (sometimes known as X-r … X-ray reflectivity (sometimes known as X-ray specular reflectivity, X-ray reflectometry, or XRR) is a surface-sensitive analytical technique used in chemistry, physics, and materials science to characterize surfaces, thin films and multilayers. It is a form of reflectometry based on the use of X-rays and is related to the techniques of neutron reflectometry and ellipsometry. The basic principle of X-ray reflectivity is to reflect a beam of X-rays from a flat surface and to then measure the intensity of X-rays reflected in the specular direction (reflected angle equal to incident angle). If the interface is not perfectly sharp and smooth then the reflected intensity will deviate from that predicted by the law of Fresnel reflectivity. The deviations can then be analyzed to obtain the density profile of the interface normal to the surface.le of the interface normal to the surface.
, Die Röntgenreflektometrie (englisch X-ray … Die Röntgenreflektometrie (englisch X-ray reflectometry, XRR, bzw. grazing incidence X-ray reflectometry, GIXR) ist eine oberflächenempfindliche Messmethode. Sie wird u. a. in der Analytischen Chemie, der Physik und der Materialwissenschaft zur Charakterisierung von Oberflächen, Dünnschichten und Mehrfachschichtsystemen eingesetzt. Sie ist verwandt mit vergleichbaren Methoden wie
* der Neutronenreflektometrie, die eine andere Art von Strahlung nutzt, die Neutronenstrahlung
* der Ellipsometrie, die eine andere Wellenlänge von elektromagnetischer Strahlung nutzt.e von elektromagnetischer Strahlung nutzt.
, Reflektivitas sinar-X (kadang-kadang diseb … Reflektivitas sinar-X (kadang-kadang disebut sebagai reflektivitas spekular sinar-X, atau reflektometri sinar-X) adalah teknik analitik permukaan yang digunakan dalam kimia, fisika, dan ilmu bahan untuk menggambarkan , dan . Teknik ini terkait dengan teknik pelengkap dan elipsometri. Ide dasar di balik teknik ini adalah memantulkan berkas sinar-X pada permukaan rata dan kemudian mengukur intensitas sinar-X yang dipantulkan pada arah yang spekular (sudut pantul sama dengan sudut datang). Jika antarmuka tidak tajam dan halus sempurna, maka intensitas yang dipantulkan akan mengalami penyimpangan dari yang diperkirakan/dihitung berdasarkan hukum reflektivitas Fresnel. Deviasinya kemudian dapat dianalisis untuk menentukan profil densitas dari antarmuka normal pada permukaan. Teknik ini pertama kali diterapkan pada sinar-X oleh pada tahun 1954. Karya pertama Parratt mengeksplorasi permukaan kaca bersalut tembaga, tetapi sejak saat itu teknik ini telah diperluas untuk antarmuka cairan dan padatan. Hubungan matematika dasar yang menjelaskan reflektivitas spekular adalah perbandingan lurus. Ketika suatu antarmuka tidak tajam sempurna, tetapi memiliki profil rapat jenis elektron rata-rata , maka reflektivitas sinar-X dapat diperkirakan sebagai::83 dengan:
* adalah reflektivitas,
* , adalah panjang gelombang sinar-X (biasanya puncak tembaga pada 0,154056 nm),
* adalah kedalaman kerapatan antara bahan, dan
* adalah sudut datang berkas. Di bawah sudut kritis (diturnkan dari hukum Snellius), radiasi sinar datang akan 100% dipantulkan, . Untuk , . Biasanya seseorang dapat menggunakan rumus ini untuk membandingkan model terparameterisasi dari profil kerapatan rata-rata dalam arah-z dengan reflektifitas sinar-X yang diukur dan kemudian memvariasikan parameter sampai profil teoritis cocok dengan pengukuran. Untuk film dengan banyak lapisan, reflektifitas sinar-X dapat menunjukkan osilasi dengan Q (sudut/panjang gelombang), analog dengan efek Fabry-Pérot, di sini disebut . Periode osilasi ini dapat digunakan untuk menyimpulkan ketebalan lapisan, kekasaran antar lapisan, kerapatan elektron beserta , dan indeks bias kompleks (yang bergantung pada nomor atom dan ), misalnya menggunakan atau formalisme Parratt rekursif sebagai berikut: dengan Xj adalah rasio amplitodo yang dipantulkan terhadap yang diteruskan antara lapisan j dan j+1, dj adalah ketebalan lapisan j, dan rj,j+1 adalah koefisien Fresnel untuk lapisan j dan j+1 dengan kj,z adalah komponen z dari bilangan gelombang. Untuk pemantulan spekular di mana sudut datang sama dengan sudut pantulan, Q yang digunakan sebelumnya adalah dua kali kz karena: . Dengan kondisi RN+1 = 0 dan T1 = 1 untuk sistem antarmuka-N (yaitu tidak ada kembali dari dalam substrat semi-tak-hingga dan amplitudo gelombang datang), semua Xj dapat dihitung berturut-turut. Kekasaran dapat juga diperhitungkan dengan penambahan faktor dengan adalah simpangan baku (aka kekasaran). Ketebalan film dan sudut kritis dapat pula diperkirakan dengan kecocokan linier dari kuadrat sudut datang puncak dalam rad2 vs kuadrat jumlah puncak sebagai berikut: .s kuadrat jumlah puncak sebagai berikut: .
, Refletividade de raios X, algumas vezes co … Refletividade de raios X, algumas vezes conhecida como refletividade especular de raios X, refletometria de raios X, ou XRR, é uma técnica analítica sensível à superfície utilizada em química, física e ciência dos materiais para caracterizar superfícies, filmes finos e de multicamadas. É relacionada a técnicas complementares de refletometria de nêutrons e elipsometria. A ideia por trás da técnica é refletir um feixe de raios X em uma superfície plana; e então medir a intensidade de raios X refletidos na direção especular (ângulo refletido igual ao ângulo de incidência). Se a interface não é perfeitamente suave e nivelada, então a intensidade refletida vai se desviar do valor de refletividade, previsto pela lei de Fresnel. Essa diferença pode ser analisada para obter o perfil de densidade da interface normal à superfície. Essa técnica parece ter sido utilizada pela primeira vez com raios X pelo professor Lyman G. Parratt, da Universidade de Cornell, em um artigo da Physical Review em 1954. O trabalho inicial de Parratt's explora a superfície de vidro revestida com cobre. Mas, desde então, a técnica tem sido estendida para uma vasta gama de interfaces sólidas ou líquidas. A relação matemática básica que descreve reflectividade especular é bastante simples. Quando uma interface não é perfeitamente plana, mas apresenta um perfil de densidade eletrônica média dada por , então a refletividade pode ser aproximada por: Onde é a refletividade, , é o comprimento de onda dos raios X, é a profundidade de penetração no material e é o ângulo de incidência. Tipicamente, pode-se então utilizar esta fórmula para comparar modelos parametrizados do perfil de densidade média na direção z, com a refletividade de raios X medida e, em seguida, variar os parâmetros até o perfil teórico corresponder as medidas. Para filmes com múltiplas camadas, a refletividade de raios X pode mostrar oscilações com comprimento de onda, análogo ao efeito de Fabry-Perot. Estas oscilações podem ser utilizadas para inferir espessuras de camada e outras propriedades, por exemplo, usando o formulação matricial de Abeles., usando o formulação matricial de Abeles.
|
| rdfs:comment |
Die Röntgenreflektometrie (englisch X-ray … Die Röntgenreflektometrie (englisch X-ray reflectometry, XRR, bzw. grazing incidence X-ray reflectometry, GIXR) ist eine oberflächenempfindliche Messmethode. Sie wird u. a. in der Analytischen Chemie, der Physik und der Materialwissenschaft zur Charakterisierung von Oberflächen, Dünnschichten und Mehrfachschichtsystemen eingesetzt. Sie ist verwandt mit vergleichbaren Methoden wie
* der Neutronenreflektometrie, die eine andere Art von Strahlung nutzt, die Neutronenstrahlung
* der Ellipsometrie, die eine andere Wellenlänge von elektromagnetischer Strahlung nutzt.e von elektromagnetischer Strahlung nutzt.
, Refletividade de raios X, algumas vezes co … Refletividade de raios X, algumas vezes conhecida como refletividade especular de raios X, refletometria de raios X, ou XRR, é uma técnica analítica sensível à superfície utilizada em química, física e ciência dos materiais para caracterizar superfícies, filmes finos e de multicamadas. É relacionada a técnicas complementares de refletometria de nêutrons e elipsometria. A ideia por trás da técnica é refletir um feixe de raios X em uma superfície plana; e então medir a intensidade de raios X refletidos na direção especular (ângulo refletido igual ao ângulo de incidência). Se a interface não é perfeitamente suave e nivelada, então a intensidade refletida vai se desviar do valor de refletividade, previsto pela lei de Fresnel. Essa diferença pode ser analisada para obter o perfil de densidade dalisada para obter o perfil de densidade d
, Reflektivitas sinar-X (kadang-kadang diseb … Reflektivitas sinar-X (kadang-kadang disebut sebagai reflektivitas spekular sinar-X, atau reflektometri sinar-X) adalah teknik analitik permukaan yang digunakan dalam kimia, fisika, dan ilmu bahan untuk menggambarkan , dan . Teknik ini terkait dengan teknik pelengkap dan elipsometri. Teknik ini pertama kali diterapkan pada sinar-X oleh pada tahun 1954. Karya pertama Parratt mengeksplorasi permukaan kaca bersalut tembaga, tetapi sejak saat itu teknik ini telah diperluas untuk antarmuka cairan dan padatan. dengan: . dengan adalah simpangan baku (aka kekasaran). .n adalah simpangan baku (aka kekasaran). .
, X-ray reflectivity (sometimes known as X-r … X-ray reflectivity (sometimes known as X-ray specular reflectivity, X-ray reflectometry, or XRR) is a surface-sensitive analytical technique used in chemistry, physics, and materials science to characterize surfaces, thin films and multilayers. It is a form of reflectometry based on the use of X-rays and is related to the techniques of neutron reflectometry and ellipsometry.of neutron reflectometry and ellipsometry.
|
