| http://dbpedia.org/ontology/abstract
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Die Ionenstrahllithografie, oftmals abgekü … Die Ionenstrahllithografie, oftmals abgekürzt Ionenlithografie, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur Herstellung einer strukturierten dünnen Schicht, die als Opferschicht für nachfolgende Abscheidungs-, Ätzungs- und Implantationsprozesse genutzt wird (vgl. Fotolithografie). Das Verfahren bildet zusammen mit der sehr ähnlichen Elektronenstrahllithografie die Gruppe der Teilchenstrahllithografien.die Gruppe der Teilchenstrahllithografien.
, Ion-beam lithography is the practice of scanning a focused beam of ions in a patterned fashion across a surface in order to create very small structures such as integrated circuits or other nanostructures.
, Ионно-лучевая литография (англ. ion beam lithography) — технология изготовления электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста ионными пучками нанометрового сечения.
|
| http://dbpedia.org/ontology/wikiPageID
|
17063328
|
| http://dbpedia.org/ontology/wikiPageLength
|
3651
|
| http://dbpedia.org/ontology/wikiPageRevisionID
|
1059191348
|
| http://dbpedia.org/ontology/wikiPageWikiLink
|
http://dbpedia.org/resource/Nanochannel_glass_materials +
, http://dbpedia.org/resource/Matter_wave +
, http://dbpedia.org/resource/Collider +
, http://dbpedia.org/resource/Particle_accelerator +
, http://dbpedia.org/resource/Focused_ion_beam +
, http://dbpedia.org/resource/Shot_noise +
, http://dbpedia.org/resource/Photolithography +
, http://dbpedia.org/resource/Integrated_circuit +
, http://dbpedia.org/resource/Maskless_lithography +
, http://dbpedia.org/resource/Bragg_curve +
, http://dbpedia.org/resource/E-beam_lithography +
, http://dbpedia.org/resource/Category:Semiconductor_device_fabrication +
, http://dbpedia.org/resource/Ion +
, http://dbpedia.org/resource/Electron_beam_lithography +
, http://dbpedia.org/resource/Nanostructure +
|
| http://dbpedia.org/property/wikiPageUsesTemplate
|
http://dbpedia.org/resource/Template:Reflist +
, http://dbpedia.org/resource/Template:Short_description +
|
| http://purl.org/dc/terms/subject
|
http://dbpedia.org/resource/Category:Semiconductor_device_fabrication +
|
| http://purl.org/linguistics/gold/hypernym
|
http://dbpedia.org/resource/Practice +
|
| http://www.w3.org/ns/prov#wasDerivedFrom
|
http://en.wikipedia.org/wiki/Ion_beam_lithography?oldid=1059191348&ns=0 +
|
| http://xmlns.com/foaf/0.1/isPrimaryTopicOf
|
http://en.wikipedia.org/wiki/Ion_beam_lithography +
|
| owl:sameAs |
http://dbpedia.org/resource/Ion_beam_lithography +
, http://de.dbpedia.org/resource/Ionenstrahllithografie +
, http://ru.dbpedia.org/resource/%D0%98%D0%BE%D0%BD%D0%BD%D0%BE-%D0%BB%D1%83%D1%87%D0%B5%D0%B2%D0%B0%D1%8F_%D0%BB%D0%B8%D1%82%D0%BE%D0%B3%D1%80%D0%B0%D1%84%D0%B8%D1%8F +
, http://yago-knowledge.org/resource/Ion_beam_lithography +
, http://fa.dbpedia.org/resource/%D8%B7%D8%B1%D8%AD%E2%80%8C%D9%86%DA%AF%D8%A7%D8%B1_%DB%8C%D9%88%D9%86%DB%8C +
, http://www.wikidata.org/entity/Q1672059 +
, http://rdf.freebase.com/ns/m.04174lp +
, https://global.dbpedia.org/id/deqH +
|
| rdf:type |
http://dbpedia.org/class/yago/Abstraction100002137 +
, http://dbpedia.org/class/yago/Know-how105616786 +
, http://dbpedia.org/class/yago/Ability105616246 +
, http://dbpedia.org/class/yago/Technique105665146 +
, http://dbpedia.org/class/yago/WikicatScientificTechniques +
, http://dbpedia.org/class/yago/Method105660268 +
, http://dbpedia.org/ontology/Company +
, http://dbpedia.org/class/yago/Cognition100023271 +
, http://dbpedia.org/class/yago/PsychologicalFeature100023100 +
|
| rdfs:comment |
Die Ionenstrahllithografie, oftmals abgekü … Die Ionenstrahllithografie, oftmals abgekürzt Ionenlithografie, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur Herstellung einer strukturierten dünnen Schicht, die als Opferschicht für nachfolgende Abscheidungs-, Ätzungs- und Implantationsprozesse genutzt wird (vgl. Fotolithografie). Das Verfahren bildet zusammen mit der sehr ähnlichen Elektronenstrahllithografie die Gruppe der Teilchenstrahllithografien.die Gruppe der Teilchenstrahllithografien.
, Ионно-лучевая литография (англ. ion beam lithography) — технология изготовления электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста ионными пучками нанометрового сечения.
, Ion-beam lithography is the practice of scanning a focused beam of ions in a patterned fashion across a surface in order to create very small structures such as integrated circuits or other nanostructures.
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| rdfs:label |
Ionenstrahllithografie
, Ионно-лучевая литография
, Ion beam lithography
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